华威的芯片研究团队,一起交流着有关芯片光刻的事情。
“这次实验,我们的核心步骤,就是芯片光刻的对准曝光技术。现在我们已经有能力得到高精度的光束,但其他的多个问题,也还需要我们一一去解决。”
仅仅是芯片光刻的步骤,就包括表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显彰等等。
这些工艺步骤有些看起来并不复杂,但想要完美的完成芯片光刻,每一个步骤都需要非常认真的对待,保证芯片加工过程的质量。
而在完成了这些步骤之后,后续还需要进行蚀刻等工艺,最终才可以得到成品的芯片。
……
接下来的时间里,宁晨跟华威公司的芯片研究团队一起,进行着有关芯片的制造的研究工作。
宁晨全程参与着各项工作内容,即便只是晶圆清洁这种较为基础的工作内容,宁晨依然会非常认真的参与进去,力求整个过程不出现任何的问题。
经过一系列的操作步骤之后,终于到了芯片光刻最关键的一个步骤。
芯片光刻对准曝光技术。
这个步骤对操作精度的要求非常的高,一般要求对位精度为最细线宽的七分之一到十分之一。
宁晨仔细观察着加工人员的操作和成品的质量,对实验现象进行着分析。
其实整个加工过程还是非常规范的,只是最终得到的产品质量,还无法令宁晨感到满意。
毕竟整个光刻的过程,都是采用全自研的技术,放眼全世界的任何一家公司,都是无法完美的完成这些所有的工作的。
而华威几乎是凭借着一家公司的力量,在挑战这个几乎不可能完成的任务。
完成了第一批实验加工后,宁晨和大家一起分析着产物的质量。
“从整体上来看,我们得到的芯片质量,还是符合我们的预期的。只是以这样的芯片质量,距离马上实现应用,还有着一定的差距。”
对于这样的结果,大家也都没有否认,以这样的芯片质量,他们肯定是不敢把这样的芯片搭载在华威手机上的。
这个时候,工厂车间的气氛显得有些沉闷。
其实整个华威的芯片研发团队,一直以来都背负着很大的压力的。
一旦他们无法在两到三年之内,彻底的解决芯片问题,那么华威就真的可能面临无芯可用的问题了。
这项研究对他们来说,是一项没有退路的研究。
不过宁晨并没有像其他人那样的绝望,虽然宁晨也无法马上解决这些问题,但至少还是有大致的思路的。
“其实我们可以从曝光能量和焦距这两个角度上,进行调整和优化。目前我们的实验条件,大概率并不是最好的实验条件,而且距离最佳的实验条件,还会有一段不小的距离。”
虽然在之前的模拟中,这些是宁晨等人认为的最好条件,但在实际的实验中,每一个步骤的条件,都会出现微小的误差。
而在经过连续的多个步骤之后,这些误差也会不断的积累,最终积累出来的误差值,还是完全不能够忽略的。
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